■ 2011년 제2차 국제출원비용 지원사업

▶ 사업개요
  ○ 우수특허기술의 국제출원비용을 지원하여 특허기술의 해외권리화 촉진 및 해외사업화 기반구축

▶ 지원대상
  ○ 개인 또는 중소기업이 국제출원한 특허, 실용신안, 디자인(※상표는 제외)
      - PCT 국제출원의 경우, 신청일 현재 국제공개일 기준 3년 이내의 국제출원건
        * PCT 국제출원: PCT만 출원 한 경우/PCT를 통해서 개별국 진입한 경우
      - 개별국 직접출원의 경우, 신청일 현재 개별국 출원일 기준 3년이내의 국제출원건
        * 개별국 직접출원: PCT없이 개별국으로 직접 출원한 경우

▶ 지원내용
  ○ 국제출원비용 : 1인당 1건, 특허, 실용신안 건당 2,100(디자인 600)만원 이내
      - 1개 기술을 1건으로 처리함
      - 수혜자로 선정된 이후 신청시점에 지출한 PCT국제출원비용을 포함하여 2년이내의 소요 비용 지원
        (단, 향후 정부예산이 변경되었을 시에는 2년동안의 비용 지원을 못할 수 있음)

▶ 신청방법
  ○ 온라인 접수
      - 온라인 신청하기(www.kipa.org) → 로그인 → 참여마당 → 사업신청 → 우수특허 사업화촉진사업
  ○ 접수기간(2차) : ‘2011. 06. 01. ∼ ‘2011. 07. 13. 오후 6시
     (수혜자선정 통보는 10월 예정)

▶ 신청기간
  ○ 2011-06-01 ~ 2011-07-13